分光曝光系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202023045894.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214067574U | 公開(公告)日 | 2021-08-27 |
申請公布號 | CN214067574U | 申請公布日 | 2021-08-27 |
分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 郭黨委;胡雅文;吳明倉 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東思沃激光科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 張艷美;毛偉碧 |
地址 | 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)研發(fā)一路1號104房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種分光曝光系統(tǒng),包括DMD微反射鏡、分光鏡、反射鏡、第一成像組件及第二成像組件,DMD微反射鏡、分光鏡及第一成像組件由上往下依次設(shè)置,分光鏡的鏡面呈傾斜設(shè)置,反射鏡于水平方向與分光鏡鄰設(shè),反射鏡的鏡面與分光鏡的鏡面平行,第二成像組件位于反射鏡的正下方。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的分光曝光系統(tǒng)借助分光鏡及反射鏡的配合,從而將DMD微反射鏡上的畫面分兩路投影在工作臺上,起到了兩個(gè)DMD微反射鏡同時(shí)工作的效果,使得曝光面得到兩倍面積的圖像,一方面節(jié)省了成本及安裝空間,另一方面提高了曝光的效率。 |
