曝光方法、曝光機及計算機可讀存儲介質

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011499334.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112462578A 公開（公告）日 2021-03-09
申請公布號 CN112462578A 申請公布日 2021-03-09
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 郭黨委;胡雅文;吳明倉 申請（專利權）人 廣東思沃激光科技有限公司
代理機構 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 代理人 張艷美;劉光明
地址 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)研發(fā)一路1號104房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種曝光方法、曝光機及計算機可讀存儲介質，其中曝光方法用于對平臺上放置的若干待曝光工件進行曝光，通過所述平臺的定位使若干待曝光工件依次對準激光器，所述曝光方法包括：至少于所述平臺的多次定位過程中的部分時段控制所述激光器處于關閉狀態(tài)。本發(fā)明對曝光機的激光器進行分時控制，使激光器至少在平臺處于定位過程中的部分時段處于關閉狀態(tài)，有效減少了激光器的工作時間，進而減少了激光器的發(fā)熱，使得設備可以保持在相對穩(wěn)定的溫度，有利于保障平臺的定位精度，同時也能起到節(jié)約電能和提高激光器的使用壽命的作用。??