曝光方法、曝光機(jī)及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011499334.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112462578A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112462578A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-09 |
| 分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 郭黨委;胡雅文;吳明倉(cāng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東思沃激光科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 張艷美;劉光明 |
| 地址 | 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)研發(fā)一路1號(hào)104房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種曝光方法、曝光機(jī)及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其中曝光方法用于對(duì)平臺(tái)上放置的若干待曝光工件進(jìn)行曝光，通過(guò)所述平臺(tái)的定位使若干待曝光工件依次對(duì)準(zhǔn)激光器，所述曝光方法包括：至少于所述平臺(tái)的多次定位過(guò)程中的部分時(shí)段控制所述激光器處于關(guān)閉狀態(tài)。本發(fā)明對(duì)曝光機(jī)的激光器進(jìn)行分時(shí)控制，使激光器至少在平臺(tái)處于定位過(guò)程中的部分時(shí)段處于關(guān)閉狀態(tài)，有效減少了激光器的工作時(shí)間，進(jìn)而減少了激光器的發(fā)熱，使得設(shè)備可以保持在相對(duì)穩(wěn)定的溫度，有利于保障平臺(tái)的定位精度，同時(shí)也能起到節(jié)約電能和提高激光器的使用壽命的作用。?? |
