一種無掩膜光刻設(shè)備和無掩膜光刻方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011374575.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112379577A | 公開（公告）日 | 2021-02-19 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112379577A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-19 |
| 分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 吳明倉(cāng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東思沃激光科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李金偉 |
| 地址 | 523000廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)研發(fā)一路1號(hào)A棟2樓A區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)適用于無掩膜光刻技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種無掩膜光刻設(shè)備和無掩膜光刻方法，無掩膜光刻設(shè)備包括用于產(chǎn)生面陣光的照明裝置、設(shè)置于照明裝置發(fā)出的面陣光的光路上的數(shù)字微鏡器件、用于承載待加工的基板的載物臺(tái)組件、設(shè)置于載物臺(tái)組件和數(shù)字微鏡器件之間的投影物鏡，以及電氣連接載物臺(tái)組件和數(shù)字微鏡器件的控制單元；數(shù)字微鏡器件具有多個(gè)縱橫排列的微反射鏡單元，微反射鏡單元反射的面陣光經(jīng)過投影物鏡后在基板上形成刻蝕光斑；各刻蝕光斑沿第一方向和與第一方向垂直的方向縱橫排列，且刻蝕光斑能夠沿第二方向掃描照射基板，第一方向和第二方向之間的夾角θ為銳角?？刂茊卧刂莆⒎瓷溏R單元偏轉(zhuǎn)，使得基板上的印制電路具有連續(xù)可變性。?? |
