一種波長偏移校正方法及裝置及計算機設備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811640676.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109655415B | 公開(公告)日 | 2022-01-18 |
申請公布號 | CN109655415B | 申請公布日 | 2022-01-18 |
分類號 | G01N21/27(2006.01)I;G06F17/16(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 于丙文;陳挺;常紅旭;鄭磊落;劉文龍;馮雨晨;方博凡 | 申請(專利權)人 | 浙江全世科技有限公司 |
代理機構 | 上海漢聲知識產權代理有限公司 | 代理人 | 胡晶 |
地址 | 310053浙江省杭州市濱江區(qū)六和路368號一幢(北)三樓B3155室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種波長偏移校正方法,該方法包括:獲取參考光譜和待校正光譜;計算待校正光譜中每個像素的強度密度函數,得到多項式系數矩陣,多項式系數矩陣中的每一組多項式系數分別為待校正光譜中的一個像素的強度密度函數的系數;確定像素偏移量范圍;根據像素偏移量范圍內的像素偏移量與多項式系數矩陣計算出每個像素偏移量對應的待審核光譜;確定和參考光譜最接近的待審核光譜,得到最優(yōu)像素偏移量;根據最優(yōu)像素偏移量與多項式系數矩陣對待校正光譜進行校正,得到波長偏移校正后的光譜。該波長偏移校正方法能夠對光譜數據進行非整數倍像素偏移量的校正,不依賴尋峰法。本發(fā)明還公開了波長偏移校正裝置及計算機設備。 |
