一種痕量氣體分析設(shè)備的預(yù)處理系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020161155.4 申請日 -
公開（公告）號 CN211602624U 公開（公告）日 2020-09-29
申請公布號 CN211602624U 申請公布日 2020-09-29
分類號 G01N1/28(2006.01)I;G01N1/40(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 于海波;汪子歸;鄭小滿;胡運興 申請（專利權(quán)）人 華納創(chuàng)新（北京）科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 100041北京市石景山區(qū)實興大街30號院17號樓7層31號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于氣體分析領(lǐng)域，具體涉及一種痕量氣體分析設(shè)備的預(yù)處理系統(tǒng)，包括捕集阱a、捕集阱b、冷盤、真空倉、閥組、制冷系統(tǒng)與加熱控制系統(tǒng)；所述捕集阱a與所述捕集阱b固定在所述冷盤上，所述捕集阱a和所述捕集阱b與所述冷盤位于所述真空倉內(nèi)，所述冷盤與所述制冷系統(tǒng)相連，所述捕集阱a和所述捕集阱b通過氣體管路分別與所述閥組相連，所述捕集阱a和所述捕集阱b通過導(dǎo)線分別與所述加熱控制系統(tǒng)相連。本實用新型的痕量氣體分析設(shè)備的預(yù)處理系統(tǒng)可實現(xiàn)樣品氣的富集、轉(zhuǎn)移、吹掃、分離等目標(biāo)，提高了痕量氣體檢測的精度。??