氣流分散裝置及氣體純化設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110981134.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113731162A 公開（公告）日 2021-12-03
申請公布號 CN113731162A 申請公布日 2021-12-03
分類號 B01D53/82（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 鄒德承;李鐵;張進 申請（專利權(quán)）人 湖北玖恩智能科技有限公司
代理機構(gòu) 湖北維智聯(lián)科知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳鴻偉
地址 435000湖北省黃石市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)·鐵山區(qū)金山大道189號B棟研發(fā)大樓501室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明申請涉及一種氣流分散裝置及氣體純化設(shè)備，其中氣流分散裝置包括第一分流板、第二分流板和設(shè)有進氣端的氣體純化罐；第一分流板上設(shè)有若干個第一通氣孔，第二分流板上設(shè)有若干個第二通氣孔；第一分流板和第二分流板均設(shè)置在氣體純化罐的內(nèi)腔中。本發(fā)明申請?zhí)峁┑臍饬鞣稚⒀b置通過在氣體純化罐內(nèi)設(shè)置至少兩層分流板，分流板上設(shè)有通氣孔，待純化氣流從進氣端進入到氣體純化罐內(nèi)會被第一分流板和第二分流板依次分散，改變原先進入的待純化氣流的集束狀態(tài)，使其充分分散，以更充分地與氣體純化罐內(nèi)的純化填料接觸，提高了氣體純化的效率和純度。