一種化學(xué)機械拋光墊
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202123092169.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN216759447U | 公開(公告)日 | 2022-06-17 |
申請公布號 | CN216759447U | 申請公布日 | 2022-06-17 |
分類號 | B24B37/26(2012.01)I;B24B37/22(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 袁黎光;肖亮鋒;王杰;劉健;石鑫;楊小牛 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院 |
代理機構(gòu) | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 510700廣東省廣州市黃埔區(qū)連云路388號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種化學(xué)機械拋光墊。本實用新型的化學(xué)機械拋光墊包括上拋光層和下拋光層;所述上拋光層采用包括粘貼的方式設(shè)置在所述下拋光層的表面上,摒棄了緩沖層,使得該化學(xué)機械拋光墊可以直接使用;所述上拋光層為棱柱陣列層,且相鄰的棱柱之間形成具有溝槽。從而無需采用銑削的方式加工開槽,減少原材料的浪費,降低拋光墊的制作成本,同時避免了銑削加工導(dǎo)致的碎屑在溝槽中的殘留,提高生產(chǎn)的晶圓的質(zhì)量。而且,所述上拋光層的棱柱為多邊形棱柱,能提高拋光液分布均勻性,有效延緩拋光流出時間,提高拋光墊利用率。 |
