一種可鍍多種膜的管式PECVD石墨舟結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121611786.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215365978U 公開（公告）日 2021-12-31
申請公布號 CN215365978U 申請公布日 2021-12-31
分類號 C23C16/458（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黎志欣;胡動力 申請（專利權(quán)）人 大連連城數(shù)控機器股份有限公司
代理機構(gòu) 大連東方專利代理有限責(zé)任公司 代理人 李洪福
地址 116000遼寧省大連市甘井子區(qū)營城子鎮(zhèn)工業(yè)園區(qū)營日路40號-1、40號-2、40號-3
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種可鍍多種膜的管式PECVD石墨舟結(jié)構(gòu)，包括多個依次疊放的舟片；所述舟片設(shè)有多個鏤空區(qū)域，所述鏤空區(qū)域用于安裝硅片，且所述鏤空區(qū)域周圍設(shè)有至少一個卡住所述硅片的勾點；所述鏤空區(qū)域安裝硅片后，相臨兩個舟片之間形成獨立的且密閉的鍍膜通道，所述鍍膜通道的延伸方向平行于所述舟片的長度方向，所述舟片在其長度方向的兩端分別加工有與所述鍍膜通道連通的進(jìn)氣孔和出氣孔；所述鍍膜通道內(nèi)通入鍍膜氣體或惰性氣體。本實用新型單個設(shè)備上可以鍍多種膜，節(jié)省了倒片時間，同時減少倒片過程的劃傷，提升了良率。同時避免鍍膜過程暴露在空氣中，減少污染。