一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021026830.9 申請日 -
公開(公告)號(hào) CN213136286U 公開(公告)日 2021-05-07
申請公布號(hào) CN213136286U 申請公布日 2021-05-07
分類號(hào) B24B41/04(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 尹育航;陶洪亮;黃天柱;劉鑫鑫;鄭丕強(qiáng);肖旭衛(wèi) 申請(專利權(quán))人 廣東奔朗新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 代理人 陶潔雯
地址 527400廣東省云浮市新興縣新城鎮(zhèn)新成三路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊,包括夾持頭和安裝于夾持頭上的膠墊,膠墊上設(shè)置有一工作面,工作面為一朝外凸的曲面,工作面上至少開設(shè)有一條斜槽,或者,將膠墊至少切斷為兩塊,以將工作面分為多個(gè)用于安裝彈性拋光件的拋光件安裝部,并且彈性拋光件多排布置于拋光件安裝部上。本實(shí)用新型通過將膠墊上的工作面分隔為多個(gè)拋光件安裝部,并且在拋光件安裝部上布置多排彈性拋光件,以用于拋光釉面,可有效避免在拋除釉磚的高點(diǎn)釉面時(shí)因膠墊收縮,拉扯鄰近的彈性拋光件向拋除高點(diǎn)的方向回縮,而導(dǎo)致高點(diǎn)釉面附近的下凹釉面出現(xiàn)漏拋的現(xiàn)象。??