一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021026830.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN213136286U | 公開(公告)日 | 2021-05-07 |
申請公布號(hào) | CN213136286U | 申請公布日 | 2021-05-07 |
分類號(hào) | B24B41/04(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 尹育航;陶洪亮;黃天柱;劉鑫鑫;鄭丕強(qiáng);肖旭衛(wèi) | 申請(專利權(quán))人 | 廣東奔朗新材料科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 陶潔雯 |
地址 | 527400廣東省云浮市新興縣新城鎮(zhèn)新成三路1號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊,包括夾持頭和安裝于夾持頭上的膠墊,膠墊上設(shè)置有一工作面,工作面為一朝外凸的曲面,工作面上至少開設(shè)有一條斜槽,或者,將膠墊至少切斷為兩塊,以將工作面分為多個(gè)用于安裝彈性拋光件的拋光件安裝部,并且彈性拋光件多排布置于拋光件安裝部上。本實(shí)用新型通過將膠墊上的工作面分隔為多個(gè)拋光件安裝部,并且在拋光件安裝部上布置多排彈性拋光件,以用于拋光釉面,可有效避免在拋除釉磚的高點(diǎn)釉面時(shí)因膠墊收縮,拉扯鄰近的彈性拋光件向拋除高點(diǎn)的方向回縮,而導(dǎo)致高點(diǎn)釉面附近的下凹釉面出現(xiàn)漏拋的現(xiàn)象。?? |
