一種PERC晶硅太陽能電池及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110919743.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113809184A | 公開(公告)日 | 2021-12-17 |
申請公布號 | CN113809184A | 申請公布日 | 2021-12-17 |
分類號 | H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/068(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李志云;蔣柱;李躍 | 申請(專利權(quán))人 | 東方日升(安徽)新能源有限公司 |
代理機構(gòu) | 滁州創(chuàng)科維知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 洪余節(jié) |
地址 | 239000安徽省滁州市常州路以東、海寧路以南、滁州大道以西、銅陵路以北 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種PERC晶硅太陽能電池及其制備方法,涉及PERC晶硅太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域,制備方法,包括以下步驟;S1:在硅基體正面形成第一氧化硅膜層;S2:在硅基體正面第一氧化硅膜層表面形成SiC:H膜層;其中,形成SiC:H膜層為通入反應(yīng)氣體SiH4、CH4進行沉積,通入時間為10~30秒,反應(yīng)氣體SiH4和CH4的通入流量比為1:(2~10),本發(fā)明在硅基體正面和背面分別采用SiC:H膜層加氮化硅或氮氧化硅膜層替代傳統(tǒng)氮化硅組合膜層以及氧化鋁疊加氮化硅膜層,通過在形成SiC:H膜層時調(diào)節(jié)通入的CH4比例,以實現(xiàn)對C含量進行調(diào)整,C含量越高導(dǎo)電性越好,以實現(xiàn)對SiC:H膜層導(dǎo)電性以及不同波長透光率進行調(diào)整。 |
