一種表面增強拉曼散射基底的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310032239.2 申請日 -
公開（公告）號 CN103091983A 公開（公告）日 2013-05-08
申請公布號 CN103091983A 申請公布日 2013-05-08
分類號 G03F7/00(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 潘革波;李豐;葛海雄 申請（專利權(quán)）人 南京豐強納米科技有限公司
代理機構(gòu) 南京知識律師事務所 代理人 汪旭東
地址 211100 江蘇省南京市江寧經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)勝太路68號南京豐強納米科技有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種表面增強拉曼散射基底的制備方法，包括如下步驟：1）準備帶有圖案的雙層復合結(jié)構(gòu)的柔性納米壓印模板；2）壓印出有序納米結(jié)構(gòu)圖案；3）真空蒸鍍；4）除去納米壓印膠阻擋層；本發(fā)明方法可以應用于所有表面增強拉曼散射基底的制備，可以克服傳統(tǒng)納米壓印制備SERS基底中存在的對基底要求苛刻，在形貌復雜、高曲率表面難以制備高分辨率的金屬有序結(jié)構(gòu)SERS基底的缺陷，且該方法工藝簡單，能大面積、大規(guī)模、低成本地生產(chǎn)高性能SERS基底，有能力解決SERS基底的制備需求，能很好的滿足目前的實際需求。