一種基于泰伯效應(yīng)恢復(fù)光柵缺陷的紫外光刻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201620482965.3 申請日 -
公開（公告）號 CN205670230U 公開（公告）日 2016-11-02
申請公布號 CN205670230U 申請公布日 2016-11-02
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 鄧茜;劉俊伯;趙立新;胡松 申請（專利權(quán)）人 四川科奧達技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 成都弘毅天承知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 徐金瓊
地址 610207 四川省成都市雙流航空港開發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種基于泰伯效應(yīng)恢復(fù)光柵缺陷的紫外光刻裝置，屬于微電子、微光學(xué)、微納結(jié)構(gòu)和光電子器件制備等微納加工領(lǐng)域的光刻技術(shù)領(lǐng)域，解決現(xiàn)有技術(shù)存在的極紫外光源體積大，成本高，操作安全系數(shù)難以保證的問題。本實用新型包括高壓汞燈、冷光橢球鏡、冷光反射鏡、快門、積木錯位蠅眼透鏡、聚光鏡、大反射鏡、精密工件臺、計算機及電控系統(tǒng)。本實用新型用于對缺陷掩膜結(jié)構(gòu)的完整恢復(fù)。