一種真空吸噴涂裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122770894.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN216605718U | 公開（公告）日 | 2022-05-27 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216605718U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-27 |
| 分類號(hào) | B05B13/02（2006.01）I;B05B15/00（2018.01）I | 分類 | 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 羅龍;楊應(yīng)根 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 東莞市中電愛(ài)華電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 東莞眾業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 523000廣東省東莞市虎門鎮(zhèn)赤崗駿馬一路2號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種真空吸噴涂裝置，包括真空發(fā)生器和密封塊，所述真空發(fā)生器通過(guò)氣管與密封塊的內(nèi)周相連通，所述密封塊形狀與待噴涂工件的形狀相匹配，密封塊內(nèi)周向內(nèi)凹陷，密封塊的外周設(shè)有向內(nèi)凹陷的卡槽，卡槽內(nèi)設(shè)有密封膠圈，密封塊對(duì)角卡槽的外周設(shè)有向上凸起的定位銷，密封塊卡槽的內(nèi)周設(shè)有與待噴涂工件形狀相匹配向上凸起的第一卡凸，密封塊卡槽的外周設(shè)有與待噴涂工件形狀相匹配向上凸起的第二卡凸，待噴涂工件置于密封塊的上端，所述真空發(fā)生器、密封膠圈、定位銷、第一卡凸和第二卡凸相互配合使得待噴涂工件和密封塊吸附在一起或相分離。本實(shí)用新型保護(hù)非噴涂面，減少飛粉、噴涂不均勻等現(xiàn)象，提高噴涂質(zhì)量及精度，提高噴涂效率。 |
