一種光刻膠及其制備方法和應(yīng)用以及光刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811265920.0 申請日 -
公開（公告）號 CN109212919A 公開（公告）日 2019-01-15
申請公布號 CN109212919A 申請公布日 2019-01-15
分類號 G03F7/42 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 肖楠;宋里千 申請（專利權(quán)）人 泓坤微電子（廈門）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 泓坤微電子（廈門）有限公司;福建泓光半導(dǎo)體材料有限公司
地址 363000 福建省漳州高新區(qū)九湖鎮(zhèn)林前村林前773號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體及集成電路領(lǐng)域，公開了一種光刻膠及其制備方法和應(yīng)用以及光刻方法。所述光刻膠含有樹脂和光致產(chǎn)酸劑，所述樹脂由20?45wt％的單元單體Ⅰ、35?65wt％的單元單體Ⅱ、10?30wt％的單元單體Ⅲ共聚而成，所述單元單體Ⅰ、單元單體Ⅱ和單元單體Ⅲ的結(jié)構(gòu)分別如式(1)、式(2)和式(3)所示。本發(fā)明提供的光刻膠能夠提高光刻膠與襯底表面的粘附性，并加快光刻膠曝光的速率、降低光刻反應(yīng)能量、降低光刻膠被刻蝕的速率或者降低顯影時繼續(xù)發(fā)生反應(yīng)的概率，實(shí)現(xiàn)光刻膠與襯底表面間沒有空洞或缺口，在填充到深溝槽底部后仍然能夠被完全顯影，襯底圖形表面仍然被光刻膠完全覆蓋。