一種高純鍺烷的純化生產(chǎn)裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021564168.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212740763U | 公開（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212740763U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-19 |
| 分類號(hào) | C01G17/00(2006.01)I | 分類 | 無機(jī)化學(xué); |
| 發(fā)明人 | 陳艷珊;曹小林 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東華特氣體股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 佛山市禾才知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉羽波;資凱亮 |
| 地址 | 528000廣東省佛山市南海區(qū)里水鎮(zhèn)和順逢西村文頭嶺腳東側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種高純鍺烷的純化生產(chǎn)裝置，包括堿洗器、冷凝器、1#吸附器、2#吸附器和冷阱。堿洗器通有堿性液體，用于去除鍺烷粗品中的酸性氣體，堿洗器的氣體輸出端連通于冷凝器的氣體輸入端。冷凝器用于去除水分，冷凝器的氣體輸出端連通于1#吸附器的氣體輸入端。1#吸附器內(nèi)裝填有第一吸附劑，用于去除水分，1#吸附器的氣體輸出端連通于2#吸附器的氣體輸入端。2#吸附器內(nèi)裝填有第二吸附劑，用于去除水分和含鍺雜質(zhì)，2#吸附器氣體輸出端連通于冷阱的氣體輸入端。冷阱用于脫除氫氣、氮?dú)?、氧氣、氬氣和一氧化碳雜質(zhì)。通過設(shè)置多個(gè)純化環(huán)節(jié)裝置，分階段地脫除鍺烷粗品中的雜質(zhì)，純化裝置簡(jiǎn)單，達(dá)到高純度的純化效果，鍺烷純化成本低。?? |
