感性耦合邊緣刻蝕反應(yīng)裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021252850.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212277163U | 公開（公告）日 | 2021-01-01 |
| 申請公布號 | CN212277163U | 申請公布日 | 2021-01-01 |
| 分類號 | H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 吳堃;楊猛 | 申請（專利權(quán)）人 | 上海邦芯半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201500上海市金山區(qū)衛(wèi)昌路293號2幢12638室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種感性耦合邊緣刻蝕反應(yīng)裝置，包括：傳片系統(tǒng)和刻蝕系統(tǒng)；傳片系統(tǒng)包括:位于腔主體中的支撐移動(dòng)平臺,支撐移動(dòng)平臺包括用于水平放置晶圓的晶圓夾持板,晶圓夾持板可圍繞垂直晶圓夾持板表面的中心軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn);刻蝕系統(tǒng)包括:下電極;上層板;位于上層板和下電極之間的射頻隔離環(huán);位于上層板頂部的感性耦合射頻單元；射頻隔離環(huán)包括:位于下電極外部區(qū)域的下射頻隔離環(huán);位于上層板外部區(qū)域的上射頻隔離環(huán),上射頻隔離環(huán)和下射頻隔離環(huán)之間具有間隙;刻蝕系統(tǒng)位于傳片系統(tǒng)的側(cè)部,刻蝕系統(tǒng)和傳片系統(tǒng)集成在一起。所述感性耦合邊緣刻蝕反應(yīng)裝置能夠提高邊緣刻蝕區(qū)域的刻蝕費(fèi)效比。?? |
