基于一比特透射式生成多模渦旋電磁波的透鏡及方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201810281503.9 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN108539426B | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請公布號 | CN108539426B | 申請公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號 | H01Q15/08（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 白旭東;孔凡偉;孫運濤;胡鵬程;顏衛(wèi)忠;錢婧怡;呂艷亭 | 申請（專利權）人 | 上?？茖W儀器廠有限公司 |
| 代理機構 | 上海航天局專利中心 | 代理人 | 余岢 |
| 地址 | 201821上海市嘉定區(qū)葉城路1518號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明采用新型的一比特透射式超材料單元，通過算法控制透鏡上單元的編碼分布，可生成不同模態(tài)的電磁渦旋波束，解決了現有的渦旋波透鏡在單一工作頻率下只能生成單一模態(tài)渦旋波束的問題。該超材料單元的特點是在其結構中集成兩個PIN二極管，通過施加兩種不同的偏置電壓，可以使數字編碼單元的透射相位呈現180度相位差，相位狀態(tài)分別用于表征數碼“1”和數碼“0”。該透鏡共包含20×20＝400個一比特透射編碼單元，每個編碼單元均包括交替排列的4層金屬結構和3層介質層。與現有技術相比，本發(fā)明具有損耗小、傳輸穩(wěn)定性高、成本低、易加工和集成度高等諸多優(yōu)點；同時，借助該新型超材料的電磁調控功能，還可有效改善渦旋電磁波的波束發(fā)散問題。?? |
