三維形貌痕跡比對測量儀的攝像機照明裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201220246163.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN202599361U | 公開(公告)日 | 2012-12-12 |
申請公布號 | CN202599361U | 申請公布日 | 2012-12-12 |
分類號 | G01B11/24(2006.01)I;G03B17/56(2006.01)I;G03B15/03(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 嚴(yán)繼華;路振濤;孟凡忠;其他發(fā)明人請求不公開姓名 | 申請(專利權(quán))人 | 安徽國盾三維高科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 安徽省蚌埠博源專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 楊晉弘 |
地址 | 233000 安徽省蚌埠市高新區(qū)黃山大道漢旭工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種三維形貌痕跡比對測量儀的攝像機照明裝置,包括一個弧形的光源支架(1),其上部通孔設(shè)有的光源頂環(huán)(3)與顯微攝像機(8)連接,光源支架下部通孔內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)向環(huán)(6),其內(nèi)孔設(shè)有轉(zhuǎn)向套(7),轉(zhuǎn)向套內(nèi)孔設(shè)有光源頭(2),光源頭內(nèi)孔中插入光纖接頭(9),光纖接頭(9)連接光纖(10),光源頭(2)的一端端聯(lián)接有光源聚光筒(4)。采用本實用新型的優(yōu)點,使用光源支架、轉(zhuǎn)向套、聚光筒對光源的照射位置、旋轉(zhuǎn)角度和聚光度進行調(diào)整,可實現(xiàn)對測量物體取景成像工作的需要,其結(jié)構(gòu)合理、性能穩(wěn)定、操作簡便,可用于微電子微機械精密件質(zhì)量檢測,從而提高質(zhì)量檢驗技術(shù)水平和工作效率。 |
