三維形貌痕跡比對(duì)測(cè)量?jī)x的投影裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201210116574.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN102661720B | 公開(公告)日 | 2014-07-30 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102661720B | 申請(qǐng)公布日 | 2014-07-30 |
分類號(hào) | G01B11/24(2006.01)I;G03B21/14(2006.01)I;G03B21/54(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 嚴(yán)繼華;路振濤;孟凡忠;梁玉清 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 安徽國(guó)盾三維高科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 安徽省蚌埠博源專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 楊晉弘 |
地址 | 233000 安徽省蚌埠市高新區(qū)黃山大道漢旭工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及三維形貌痕跡比對(duì)測(cè)量?jī)x的投影裝置,包括基座(1)及云臺(tái)(5),基座上面設(shè)有立柱(2),立柱連接攝像機(jī)支架(3a),攝像機(jī)支架(3a)中連接有攝像機(jī)(3)及投影儀(4),其特征在于:攝像機(jī)支架(3a)上連接五維調(diào)節(jié)裝置(7),投影儀(4)連接于五維調(diào)節(jié)裝置(7)上。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是投影儀可以在四維空間內(nèi)任意調(diào)整,調(diào)整精確度高,其結(jié)構(gòu)合理、性能穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便,提高了物證檢測(cè)工作效率。 |
