抗蝕劑去除劑

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410615959.6 申請日 -
公開（公告）號 CN104777721B 公開（公告）日 2019-12-06
申請公布號 CN104777721B 申請公布日 2019-12-06
分類號 G03F7/42（2006.01） 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 青島華仁技術(shù)孵化器有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 蘇雪雪
地址 266071 山東省青島市市南區(qū)香港中路32號五礦大廈801-A室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種抗蝕劑去除劑，其原料包括防腐蝕劑、有機(jī)胺化合物、有機(jī)溶劑、去離子水和C2～C15一元醇。本發(fā)明提供的提供剝離性優(yōu)異、安全，且不會腐蝕導(dǎo)電體的防腐蝕性優(yōu)異的抗蝕劑去除劑，其剝離性效果較本發(fā)明之前提供的抗蝕劑去除劑的效果更好，且防腐蝕性效果更好，由于防腐蝕劑在在抗蝕劑去除劑中的使用量更低，降低企業(yè)生產(chǎn)成本。