可控硅結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022145791.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212725318U | 公開(公告)日 | 2021-03-16 |
申請公布號 | CN212725318U | 申請公布日 | 2021-03-16 |
分類號 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/74(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉宗賀;吳沛東 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳長晶微電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市宏德雨知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李捷 |
地址 | 518000廣東省深圳市龍崗區(qū)布吉街道文景社區(qū)廣場路中安大廈1803-11 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供一種可控硅結(jié)構(gòu),其包括N型襯底、背面P型摻雜、P型穿通環(huán)、正面P型摻雜、隔離槽、N型摻雜區(qū)、表面結(jié)構(gòu)和第三金屬電極,背面P型摻雜設(shè)置在N型襯底一端,P型穿通環(huán)位于N型襯底四周,一端接觸背面P型摻雜,正面P型摻雜設(shè)置在N型襯底遠(yuǎn)離背面P型摻雜一端,隔離槽呈環(huán)狀,一端露出正面P型摻雜區(qū),另一端穿過正面P型摻雜區(qū),沉入N型襯底中,N型摻雜區(qū)設(shè)置在正面P型摻雜上,表面結(jié)構(gòu)設(shè)置在正面P型摻雜遠(yuǎn)離N型襯底的一端,用于芯片鈍化以及封裝焊接,第三金屬電極覆蓋在背面P型摻雜上,用于封裝可控硅陽極電極焊接導(dǎo)電。本實(shí)用新型的可控硅結(jié)構(gòu),提高了電壓和電流的調(diào)節(jié)能力。?? |
