一種真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200920051287.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN201358299Y | 公開(公告)日 | 2009-12-09 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN201358299Y | 申請(qǐng)公布日 | 2009-12-09 |
分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 夏登峰;蘇陟;鄭永德;楊偉民 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣州力加電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州凱東知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張玉樞 |
地址 | 510000廣東省廣州市廣州科學(xué)城科學(xué)大道182號(hào)創(chuàng)新大廈C2區(qū)第2層204室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置,包括真空腔體,真空獲得系統(tǒng)、靶極和收放卷系統(tǒng),真空腔體上設(shè)置有真空獲得系統(tǒng),真空獲得系統(tǒng)使真空腔體內(nèi)部在工作時(shí)呈真空狀態(tài),真空腔體內(nèi)的磁控濺射區(qū)設(shè)置有磁控濺射的靶極,磁控濺射的靶極設(shè)置有兩排,磁控濺射區(qū)兩側(cè)分別設(shè)置有收放卷系統(tǒng)。本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)是:(1)真空腔體為圓形,不會(huì)形成抽氣死角,真空度均勻;真空室內(nèi)無返油;提高了工作效率。(2)采用了雙收放卷系統(tǒng),可以滿足磁控濺射區(qū)全幅寬的一卷雙面鍍及兩卷單面鍍;也可以滿足鍍區(qū)半幅寬的兩卷鍍單面及雙面鍍,功能全面。(3)對(duì)基材表面進(jìn)行離子轟擊,提高基材表面粗糙度,確保膜層與基材之間的剝離強(qiáng)度。 |
