一種真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200920051287.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN201358299Y 公開（公告）日 2009-12-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN201358299Y 申請(qǐng)公布日 2009-12-09
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 夏登峰;蘇陟;鄭永德;楊偉民 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣州力加電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州凱東知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張玉樞
地址 510000廣東省廣州市廣州科學(xué)城科學(xué)大道182號(hào)創(chuàng)新大廈C2區(qū)第2層204室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，包括真空腔體，真空獲得系統(tǒng)、靶極和收放卷系統(tǒng)，真空腔體上設(shè)置有真空獲得系統(tǒng)，真空獲得系統(tǒng)使真空腔體內(nèi)部在工作時(shí)呈真空狀態(tài)，真空腔體內(nèi)的磁控濺射區(qū)設(shè)置有磁控濺射的靶極，磁控濺射的靶極設(shè)置有兩排，磁控濺射區(qū)兩側(cè)分別設(shè)置有收放卷系統(tǒng)。本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)是：(1)真空腔體為圓形，不會(huì)形成抽氣死角，真空度均勻；真空室內(nèi)無返油；提高了工作效率。(2)采用了雙收放卷系統(tǒng)，可以滿足磁控濺射區(qū)全幅寬的一卷雙面鍍及兩卷單面鍍；也可以滿足鍍區(qū)半幅寬的兩卷鍍單面及雙面鍍，功能全面。(3)對(duì)基材表面進(jìn)行離子轟擊，提高基材表面粗糙度，確保膜層與基材之間的剝離強(qiáng)度。