一種真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200910037213.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN101492809A | 公開(kāi)(公告)日 | 2012-02-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN101492809A | 申請(qǐng)公布日 | 2012-02-01 |
分類(lèi)號(hào) | C23C14/35 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 夏登峰;蘇陟;鄭永德;楊偉民 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 廣州力加電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州凱東知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張玉樞 |
地址 | 510660 廣東省廣州市廣州高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)開(kāi)源大道11號(hào)A5棟第六層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置,包括真空腔體,真空獲得系統(tǒng)、靶極和收 放卷系統(tǒng),真空腔體上設(shè)置有真空獲得系統(tǒng),真空獲得系統(tǒng)使真空腔體內(nèi)部在 工作時(shí)呈真空狀態(tài),真空腔體內(nèi)的磁控濺射區(qū)設(shè)置有磁控濺射的靶極,磁控濺 射的靶極設(shè)置有兩排,磁控濺射區(qū)兩側(cè)分別設(shè)置有收放卷系統(tǒng)。本發(fā)明具有的 優(yōu)點(diǎn)是:(1)真空腔體為圓形,不會(huì)形成抽氣死角,真空度均勻;真空室內(nèi)無(wú) 返油;提高了工作效率。(2)采用了雙收放卷系統(tǒng),可以滿(mǎn)足磁控濺射區(qū)全幅 寬的一卷雙面鍍及兩卷單面鍍;也可以滿(mǎn)足鍍區(qū)半幅寬的兩卷鍍單面及雙面鍍, 功能全面。(3)對(duì)基材表面進(jìn)行離子轟擊,提高基材表面粗糙度,確保膜層與 基材之間的剝離強(qiáng)度。 |
