一種雙層環(huán)流連續(xù)反射爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201420762936.3 申請日 -
公開(公告)號 CN204461035U 公開(公告)日 2015-07-08
申請公布號 CN204461035U 申請公布日 2015-07-08
分類號 F27B3/04(2006.01)I;F27B3/10(2006.01)I;F27B3/20(2006.01)I 分類 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 黎乾榮;梁世豪;王繼峰 申請(專利權(quán))人 廣西泰星電子焊接材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣西南寧明智專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 代理人 黎明天;陳旻琦
地址 547200 廣西壯族自治區(qū)河池市南丹縣城關(guān)鎮(zhèn)拉要屯牛角坳
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及礦物熔煉設(shè)備領(lǐng)域,公開了一種雙層環(huán)流連續(xù)反射爐,包括反射爐體位于爐體內(nèi)的熔煉區(qū)、沉淀區(qū),爐體頂端設(shè)置加料口,沉淀區(qū)液面上方設(shè)置放渣口,下方設(shè)置放錫口,爐體尾部設(shè)置排煙孔;爐體內(nèi)還懸空固定有物料架,物料架正上方及兩側(cè)上方的爐壁均設(shè)置有加料口;爐體內(nèi)部設(shè)置有正向燃?xì)鈬娍诤头聪蛉細(xì)鈬娍?,正向燃?xì)鈬娍谖挥谖锪霞芟路剑瑖娮靸A斜朝上,反向燃?xì)鈬娍谖挥谖锪霞苌戏剑瑖娮靸A斜朝下;所述的熔煉區(qū)包括位于物料架上方的熔煉區(qū)和位于爐床上方的熔煉區(qū)。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有反射爐存在燃料熱量利用不充分、熔煉時間長的問題,具有熔煉能力強(qiáng),熱效率高的特點(diǎn)。