深孔內(nèi)壁電弧離子鍍膜方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200910303933.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN101597750B | 公開(公告)日 | 2011-11-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN101597750B | 申請(qǐng)公布日 | 2011-11-16 |
分類號(hào) | C23C14/32(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 林國(guó)強(qiáng);石昌侖;王文濤;劉琪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 大連理工大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)移中心有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 大連理工大學(xué)專利中心 | 代理人 | 大連理工大學(xué);大連理工常州研究院有限公司 |
地址 | 116085 遼寧省大連市甘井子區(qū)凌工路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 深孔內(nèi)壁電弧離子鍍膜方法屬于材料科學(xué)與工程技術(shù)領(lǐng)域。涉及一種用電弧離子鍍?cè)诰哂猩羁捉Y(jié)構(gòu)的模具和管子內(nèi)壁沉積薄膜的方法。其特征在于,在鍍膜過程中同時(shí)使用工件周圍的不均勻磁場(chǎng)與脈沖偏壓,利用電磁場(chǎng)與等離子體的相互作用達(dá)到在深處鍍膜的目的。使用的磁鐵的磁感應(yīng)強(qiáng)度為500~8000高斯、長(zhǎng)度20~150mm,磁鐵到工件孔內(nèi)壁和孔端面的距離與磁感應(yīng)強(qiáng)度成正比,符合L=(B±500)/40(mm)關(guān)系;使用的脈沖偏壓幅值為200~800V,頻率5~40kHz,占空比5~40%。其效果和益處是在具有管孔結(jié)構(gòu)的工件內(nèi)壁鍍膜,鍍膜的深度大于2倍孔徑。廣泛用于機(jī)械制造領(lǐng)域中具有內(nèi)孔結(jié)構(gòu)的零件和模具的內(nèi)表面鍍膜。 |
