一種鋁量子阱激光器及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110628970.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113078553A | 公開(公告)日 | 2021-07-06 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113078553A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-06 |
分類號(hào) | H01S5/12(2021.01)I;H01S5/343(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張海超;穆瑤;師宇晨;李馬惠;潘彥廷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 陜西源杰半導(dǎo)體科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 馬貴香 |
地址 | 712000陜西省咸陽市西咸新區(qū)灃西新城世紀(jì)大道55號(hào)清華科技園北區(qū)加速器20號(hào)廠房C區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種鋁量子阱激光器及其制備方法,制備方法包括以下步驟:采用多硫化銨溶液處理刻蝕面上的氧化物,并生成硫化物保護(hù)層;采用金屬有機(jī)氣相沉積在InP基板表面依次生長波導(dǎo)層和第三InP層,在金屬有機(jī)氣相外延沉積生長前的升溫過程中,烘烤刻蝕面使硫化物保護(hù)層的硫原子解吸附,生成硫單質(zhì)隨載氣升華。此解決含鋁量子阱激光器刻蝕面氧化問題的發(fā)明的工藝,與傳統(tǒng)的鈍化技術(shù)相比,成本低,工藝簡單,穩(wěn)定性強(qiáng)。 |
