一種晶圓加工用濕法清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922459023.X 申請日 -
公開（公告）號 CN211587742U 公開（公告）日 2020-09-29
申請公布號 CN211587742U 申請公布日 2020-09-29
分類號 B08B3/10(2006.01)I 分類 清潔;
發(fā)明人 鄭東來;繆小波 申請（專利權(quán)）人 江蘇嘉兆電子有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 226100江蘇省南通市海門市臨江鎮(zhèn)洞庭湖路100號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種晶圓加工用濕法清洗設(shè)備，包括支架、清洗槽、放置框、連接桿、滑板、螺紋桿、固定板、升降電機、滑桿和晶圓架，支架頂部固定有清洗槽，清洗槽內(nèi)壁設(shè)有放置框，放置框兩側(cè)對稱固定有連接桿，放置框兩端的兩個連接桿一端固定有滑板，滑板中部開設(shè)有螺紋孔，螺紋孔內(nèi)壁螺紋連接有螺紋桿，且螺紋桿底部通過軸承與清洗槽底部轉(zhuǎn)動連接，清洗槽內(nèi)壁頂部對稱固定有固定板，螺紋桿頂部通過軸承與固定板轉(zhuǎn)動連接，固定板中部固定有升降電機，且升降電機的輸出端與螺紋桿固定連接，滑板兩端通過導(dǎo)套對稱滑動連接有滑桿，此晶圓加工用濕法清洗設(shè)備便于人們?nèi)》啪A架、且清洗效率較高，便于人們使用。??