紅外探測(cè)器及其制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011519765.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112531047A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-03-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112531047A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-19 |
分類號(hào) | H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/102(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張立群;黃勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州晶歌半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 孫偉峰;武岑飛 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城20號(hào)樓3層300-44工位(集群登記) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種紅外探測(cè)器及其制作方法。所述紅外探測(cè)器的N型吸收層(12)為N型InAs材料或者N型InAs/InPSb超晶格,并且所述紅外探測(cè)器的N型勢(shì)壘層(13)為N型InPSb材料。本發(fā)明的器件結(jié)構(gòu)中完全不含Al,避免了含Al材料的氧化,降低了材料生長(zhǎng)和加工的難度,提升了器件穩(wěn)定性和可靠性。?? |
