一種高硬度耐磨陶瓷磚及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201810713912.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108996905B | 公開(公告)日 | 2021-04-13 |
申請公布號 | CN108996905B | 申請公布日 | 2021-04-13 |
分類號 | C03C8/00(2006.01)I;C04B41/89(2006.01)I | 分類 | 玻璃;礦棉或渣棉; |
發(fā)明人 | 柯善軍;田維;倪成林;吳洋;馬超 | 申請(專利權(quán))人 | 廣西歐神諾陶瓷有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 王國標(biāo) |
地址 | 528000廣東省佛山市三水區(qū)樂平鎮(zhèn)范湖工業(yè)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種高硬度耐磨陶瓷磚,其自下而上包括坯體、底釉層、裝飾層和高硬度耐磨拋釉層,所述高硬度耐磨拋釉層的化學(xué)成分按重量百分比計包括68~75%的SiO2、10~13%的Al2O3、0.05~0.1%的Fe2O3、0.01~0.03%的TiO2、1~3%的CaO、2~4%的MgO、2~5%的K2O、1.5~3%的Na2O、0.1~0.3的Li2O、1~2.5%的BaO和2.5~4%的燒失。本發(fā)明通過控制釉料中的化學(xué)組分,獲得高硅釉料,從而保證后期形成高硬度耐磨拋釉層。本發(fā)明還公開了該陶瓷磚的制備方法,其通過原料的納米化工藝和高硅釉料的粒徑粗細匹配解決后期形成釉層時容易縮釉等釉面缺陷,從而大大了提高陶瓷磚釉面的硬度和耐磨性。?? |
