一種多晶硅生產(chǎn)用還原爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721748411.4 申請日 -
公開（公告）號 CN207671694U 公開（公告）日 2018-07-31
申請公布號 CN207671694U 申請公布日 2018-07-31
分類號 C01B33/035 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 馮謹(jǐn);孟昱良;姚亮 申請（專利權(quán)）人 河北東明中硅科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京德崇智捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 河北東明中硅科技有限公司
地址 052360 河北省石家莊市辛集市工業(yè)路南段東側(cè)制革區(qū)內(nèi)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種多晶硅生產(chǎn)用還原爐，包括底座，電極，硅芯，爐體和氣體循環(huán)裝置；底座內(nèi)部設(shè)有導(dǎo)流腔，導(dǎo)流腔的頂壁上開設(shè)有若干爐體出氣孔；爐體包括外爐體，內(nèi)爐體和夾套層，爐體出氣孔與內(nèi)爐體相連通，外爐體上設(shè)有冷媒進(jìn)管和冷媒出管；氣體循環(huán)裝置包括出氣管，罩體和進(jìn)氣管；出氣管延伸至內(nèi)爐體上部，出氣管與罩體之間形成出氣風(fēng)道，導(dǎo)流腔的頂壁上開設(shè)有導(dǎo)流腔出氣孔，進(jìn)氣管的上端設(shè)有球形儲氣腔，儲氣腔上均勻設(shè)有進(jìn)氣孔，進(jìn)氣管的下端貫穿出氣管的側(cè)壁。本裝置內(nèi)氣體流動無死角，避免了倒?fàn)t現(xiàn)象，同時(shí)能將出氣管中氣體的熱量在還原爐內(nèi)部進(jìn)行吸收，減小耗電量，極大的節(jié)約了成本。