一種多晶硅還原爐爐筒清洗方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201110213570.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN102357493B | 公開(kāi)(公告)日 | 2013-04-24 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102357493B | 申請(qǐng)公布日 | 2013-04-24 |
分類(lèi)號(hào) | B08B9/08(2006.01)I | 分類(lèi) | 清潔; |
發(fā)明人 | 馮謹(jǐn);陳駿;楊刊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 河北東明中硅科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 石家莊國(guó)為知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | 河北東明中硅科技有限公司 |
地址 | 052360 河北省石家莊市辛集市工業(yè)路南段東側(cè)制革區(qū)內(nèi) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種多晶硅還原爐爐筒清洗方法,包括下述步驟:(1)拆開(kāi)多晶硅還原爐的視鏡;(2)用去離子水對(duì)還原爐爐筒內(nèi)壁進(jìn)行沖洗;(3)用滌綸無(wú)紡布蘸取質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%-10%的氟化氫銨溶液對(duì)爐筒內(nèi)壁進(jìn)行擦拭,讓其溶液在內(nèi)壁停滯10-15min;(4)用去離子水對(duì)還原爐爐筒內(nèi)壁進(jìn)行沖洗;(5)再次用滌綸無(wú)紡布蘸取質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%-4%的氟化氫銨溶液對(duì)爐筒內(nèi)壁進(jìn)行擦拭,讓其溶液在爐筒內(nèi)壁停滯10-15min;(6)用去離子水爐筒內(nèi)壁進(jìn)行沖洗,并用氮?dú)獯蹈?;?)用無(wú)水乙醇擦拭爐筒內(nèi)壁,待到乙醇揮發(fā)完全后,用干燥的滌綸無(wú)紡布再擦拭一遍。本發(fā)明的方法具有簡(jiǎn)單可行、清洗效率高等優(yōu)點(diǎn)。 |
