一種MWT太陽能電池改善穩(wěn)態(tài)的PSG調(diào)整和測試方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010024420.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111245366B | 公開(公告)日 | 2021-05-18 |
申請公布號 | CN111245366B | 申請公布日 | 2021-05-18 |
分類號 | H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 段帥華;邢飛;史修江;夏中雪 | 申請(專利權(quán))人 | 徐州谷陽新能源科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京樂羽知行專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李培 |
地址 | 221300 江蘇省徐州市邳州市高新科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)濱湖大道南、香山路西 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種MWT太陽能電池改善穩(wěn)態(tài)的PSG調(diào)整和測試方法,包括測試方法和調(diào)整方法兩個(gè)方面,第一步,取刻蝕即背面堿拋后的硅片,順著打孔的位置將孔1/2位置平均分成2塊;第二步,將孔位置放在3D顯微鏡下,用5倍物鏡,燈光亮度26%?30%找到打孔側(cè)面位置;第三步,將打孔位置移至光標(biāo)中心;第四步,調(diào)整物鏡50倍,燈光亮度12%?16%,測試模式Zeta3D模式測試孔內(nèi)3D圖片;第五步,選擇直線,拉取孔內(nèi)過刻長度及硅片厚度;第六步,計(jì)算孔內(nèi)過刻比,孔內(nèi)過刻比=過刻長度/硅片厚度,控制孔內(nèi)過刻比為硅片橫截面積的0?50%。 |
