一種漫反射型標(biāo)定板及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010347388.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113560960A | 公開(公告)日 | 2021-10-29 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113560960A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-29 |
分類號(hào) | B24B1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 鄧輝;陳保國;范海文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 長沙韶光鉻版有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 | 代理人 | 馬強(qiáng);聶午陽 |
地址 | 410129湖南省長沙市芙蓉區(qū)長榔路88號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種漫反射型標(biāo)定板的制備方法,包括以下步驟:使用20%?60%DN95粒徑10微米以下的金剛砂溶液,對(duì)拋光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨10?40min,得到第一研磨面,拋光片/原版玻璃的上表面為第一研磨面或平面;在拋光片/原版玻璃的上表面采用半導(dǎo)體掩模版圖形制作工藝流程加工制作圖形,依次進(jìn)行鍍膜、涂膠、光刻、顯影和腐蝕,制得金屬鉻層;進(jìn)行精密切割,尺寸精度為±0.05mm,本發(fā)明還公開了利用該方法制得的標(biāo)定板,本發(fā)明采用研磨工藝制作磨砂效果,滿足高平面度要求,砂粒精細(xì)并可控,反射率小于0.1%。 |
