一種化學(xué)機械拋光用二氧化硅及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210175071.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114560468A 公開（公告）日 2022-05-31
申請公布號 CN114560468A 申請公布日 2022-05-31
分類號 C01B33/18（2006.01）I;C09G1/02（2006.01）I;C09K3/14（2006.01）I;B82Y40/00（2011.01）I 分類 無機化學(xué);
發(fā)明人 秦冬霞;司徒粵;黃丹;程翔;梁少彬 申請（專利權(quán)）人 金三江（肇慶）硅材料股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州科沃園專利代理有限公司 代理人 -
地址 526238廣東省肇慶市高新區(qū)迎賓大道23號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于納米材料技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種化學(xué)機械拋光用二氧化硅及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明提供的化學(xué)機械拋光用納米球形二氧化硅的制備方法，以正硅酸乙酯（TEOS）為硅源，聚環(huán)氧乙烷?聚環(huán)氧丙烷?聚環(huán)氧乙烷三嵌段共聚物（P123）和自制的表面活性劑為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑，乙醇和水為共溶劑，各組分按特定的比例進行反應(yīng)，可有效調(diào)控二氧化硅的梯度粒徑至20~100nm，且粒徑均一性好，有利于提高二氧化硅的分散性，應(yīng)用于化學(xué)機械拋光液中，可以有效提高化學(xué)機械拋光的速率，減少材料拋光后的表面粗糙度，是作為半導(dǎo)體器件的化學(xué)拋光機械拋光液良好的磨料。