超輻射發(fā)光二極管或激光器外延結(jié)構(gòu)及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510953170.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106898948B | 公開(公告)日 | 2019-05-31 |
申請公布號 | CN106898948B | 申請公布日 | 2019-05-31 |
分類號 | H01S5/343(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 高雪; 周坤; 孫逸; 馮美鑫; 劉建平; 孫錢; 張書明; 李德堯; 張立群; 楊輝 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州納睿光電有限公司 |
代理機構(gòu) | 南京利豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王鋒 |
地址 | 310000 浙江省杭州市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)白楊街道21號大街600號2幢110室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種超輻射發(fā)光二極管或激光器外延結(jié)構(gòu)及其制備方法。所述外延結(jié)構(gòu)包括從下到上依次設(shè)置的Si襯底、AlN緩沖層、AlGaN緩沖層、GaN波導(dǎo)層、n型AlGaN層、n型或i型InGaN下波導(dǎo)層、有源區(qū)、p型或i型InGaN上波導(dǎo)層、p型AlGaN電子阻擋層、p型AlGaN上光學(xué)限制層、p型或n型GaN或InGaN接觸層。優(yōu)選的,所述有源區(qū)采用i型InGaN/GaN多量子阱或量子點有源區(qū)。所述GaN波導(dǎo)層的厚度與所述超輻射發(fā)光二極管或激光器的脊形條寬相當(dāng)。藉由本發(fā)明的所述外延結(jié)構(gòu),注入的載流子可以被有效的限制在很薄的有源區(qū)中,其復(fù)合產(chǎn)生的光強能夠從有源區(qū)擴展到第一波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中,而因其中的GaN波導(dǎo)層較厚,該波導(dǎo)結(jié)構(gòu)可以顯著提高超輻射發(fā)光二極管、激光器的光束質(zhì)量。 |
