一種制備減摩耐磨TiAlN/TiAlCN多層復(fù)合薄膜的方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202210322102.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114686832A | 公開（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申請公布號(hào) | CN114686832A | 申請公布日 | 2022-07-01 |
| 分類號(hào) | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 周兵;王一名;劉竹波;李俊峰;馬永;王永勝;于盛旺 | 申請（專利權(quán)）人 | 太原理工大學(xué) |
| 代理機(jī)構(gòu) | 太原市科瑞達(dá)專利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 030024山西省太原市萬柏林區(qū)迎澤西大街79號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種制備減摩耐磨TiAlN/TiAlCN多層復(fù)合薄膜的方法，包括以下步驟：將預(yù)處理后的基體烘干，放置于磁控濺射與過濾陰極電弧復(fù)合的多激發(fā)源等離子體鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)上；將真空室抽真空并通入氬氣，采用離子源對基體表面進(jìn)行濺射清洗；分別以高純金屬硅和鋁作為射頻和直流脈沖磁控濺射的濺射靶材，高純鈦和石墨片作為直流磁過濾和脈沖陰極電弧的蒸發(fā)靶材，通過調(diào)節(jié)金屬靶濺射功率、石墨靶脈沖頻率和脈沖數(shù)制備TiAlN/TiAlCN多層復(fù)合薄膜。本發(fā)明制備的TiAlN/TiAlCN多層復(fù)合薄膜元素含量可調(diào)、調(diào)制周期易控，具有高硬度、高結(jié)合強(qiáng)度、低摩擦系數(shù)和良好耐磨性能。 |
