一種黑膜窄帶濾光片及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010440566.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111736250A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-10-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111736250A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-02 |
| 分類號(hào) | G02B5/28(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 陸張武;王迎;柴建龍;李恭劍;徐征馳 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 浙江晶馳光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 浙江千克知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張海兵 |
| 地址 | 318001浙江省臺(tái)州市椒江區(qū)開(kāi)發(fā)大道東段2198號(hào)一期聯(lián)合廠房3樓-A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種黑膜窄帶濾光片及其制備方法，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。濾光片包括玻璃基底、設(shè)于玻璃基底一側(cè)的窄帶通膜系、以及設(shè)于玻璃基底另一側(cè)的長(zhǎng)波通膜系；長(zhǎng)波通膜系包括從下往上逐層交替沉積的氫氧化硅/氮?dú)浠枘雍脱趸枘樱徽瓗は蛋◤南峦现饘咏惶娉练e的氧化硅膜層和氫氧化硅/氮?dú)浠枘?。方法包括：采用磁控濺射方法在玻璃基底一側(cè)沉積上述長(zhǎng)波通膜系，并在玻璃基底另一側(cè)沉積上述窄帶通膜系。本發(fā)明在入射角為0°時(shí)，934?962nm譜段具有高透過(guò)率，在350?901nm譜段、1000?1100nm譜段截止；入射角為30°時(shí)，925?951nm譜段具有高透過(guò)率；同時(shí)窄帶面在入射角為6°時(shí)，反射在400?700波段平均反射低于5％。?? |
