一種真空濺射鍍膜機(jī)及其吸灰方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010507680.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111575672A 公開（公告）日 2020-08-25
申請公布號 CN111575672A 申請公布日 2020-08-25
分類號 C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 陸張武;於霄峰;徐勇軍;李恭劍 申請（專利權(quán)）人 浙江晶馳光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 浙江千克知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張海兵
地址 318001浙江省臺州市椒江區(qū)開發(fā)大道東段2198號一期聯(lián)合廠房3樓-A
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種真空濺射鍍膜機(jī)及其吸灰方法，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。真空濺射鍍膜機(jī)包括鍍膜腔室PR?CH、搬送腔室LL?CH、開門閥；LL?CH和PR?CH處均設(shè)有吸灰基板，或者PR?CH設(shè)有吸灰基板；吸灰基板面朝腔室內(nèi)側(cè)面設(shè)有粘灰層。當(dāng)兩個腔室均設(shè)有吸灰基板時；方法包括：將LL?CH抽氣至小于壓強閾值；對PR?CH進(jìn)行充氣凈化，使得PR?CH內(nèi)污染物吸附在吸灰基板上；在LL?CH完成抽氣和放氣后，停止對LL?CH抽氣，打開開門閥，對連通的LL?CH和PR?CH抽氣一段時間并關(guān)閉開門閥；對LL?CH進(jìn)行充氣凈化，使得LL?CH內(nèi)污染物吸附在吸灰基板上。當(dāng)鍍膜腔室設(shè)有吸灰基板時，方法包括對PR?CH進(jìn)行充氣凈化，使得PR?CH內(nèi)污染物吸附在吸灰基板上。本發(fā)明在不開箱清潔的條件下，對腔體內(nèi)部進(jìn)行吸灰，吸灰完成后產(chǎn)品表面質(zhì)量得到提高。??