一種基于雙層壓電膜的直線型驅(qū)動(dòng)器
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011344010.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112532104A | 公開（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112532104A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-19 |
| 分類號(hào) | H02N2/04(2006.01)I;H02N2/00(2006.01)I;H01L41/09(2006.01)I;H02N2/08(2006.01)I;H02N2/06(2006.01)I | 分類 | 發(fā)電、變電或配電; |
| 發(fā)明人 | 秦風(fēng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 成都度控科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都聚蓉眾享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張輝 |
| 地址 | 610000四川省成都市高新區(qū)合作路89號(hào)9幢1單元20層2009號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提出一種基于雙層壓電膜的直線型驅(qū)動(dòng)器，通過(guò)薄膜沉積工藝在基底正表面依次沉積下電極、下壓電膜、中間電極、上壓電膜和上電極形成多層結(jié)構(gòu)；利用刻蝕工藝對(duì)所述多層結(jié)構(gòu)進(jìn)行光刻及圖形化，形成多根形狀、尺寸相同的條形驅(qū)動(dòng)單元；采用深刻蝕工藝對(duì)基底背部加深槽反應(yīng)離子刻蝕和/或濕法腐蝕，將基底的厚度減薄至預(yù)設(shè)厚度以下，制備出背部腔體以及形成驅(qū)動(dòng)振膜，獲得基于雙層壓電膜的直線型驅(qū)動(dòng)器。本發(fā)明每一層壓電致動(dòng)材料厚度可控制在百納米至數(shù)微米范圍，能有效降低器件整體厚度。此外，本發(fā)明的制備工藝與標(biāo)準(zhǔn)MEMS產(chǎn)線完全兼容，具備批量化生產(chǎn)能力。因此，本發(fā)明能解決壓電直線型電機(jī)的小型化、薄型化和批量化問(wèn)題。?? |
