一種純硅沸石膜及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | 2020111771605 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112279265A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-01-29 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112279265A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-29 |
| 分類號(hào) | C01B39/04(2006.01)I;C01B37/02(2006.01)I | 分類 | 無(wú)機(jī)化學(xué); |
| 發(fā)明人 | 吳蘇州;陳俊孚;任嵬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 武漢市晶博特科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳峰誠(chéng)志合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李明香 |
| 地址 | 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)關(guān)東工業(yè)園達(dá)瑞路2號(hào)眾創(chuàng)樓一樓110室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種純硅沸石膜及其制備方法和應(yīng)用，所述制備方法先以適宜尺寸的沸石晶粒修飾多孔載體，然后在修飾晶粒的載體表面涂覆硅溶膠，在不使用傳統(tǒng)水熱晶化液的條件下，將傳統(tǒng)晶化液中的硅源和模板劑分別供給，并精確調(diào)控模板劑蒸汽壓力和去離子水的壓力直接制備純硅沸石膜，提高了材料利用率，優(yōu)化純硅沸石膜的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)水熱晶化制備沸石膜缺陷多、浪費(fèi)原料等問(wèn)題，僅通過(guò)精確控制模板劑和去離子水壓力即可控制純硅沸石膜的微觀結(jié)構(gòu)。通過(guò)本發(fā)明的方法制備得到的純硅沸石膜缺陷少、成品率高，在水醇混合物分離中表現(xiàn)出優(yōu)異的性能。?? |
