一種純硅沸石膜及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | 2020111771605 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112279265A | 公開(公告)日 | 2021-01-29 |
申請公布號 | CN112279265A | 申請公布日 | 2021-01-29 |
分類號 | C01B39/04(2006.01)I;C01B37/02(2006.01)I | 分類 | 無機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 吳蘇州;陳俊孚;任嵬 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢市晶博特科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳峰誠志合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李明香 |
地址 | 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)關(guān)東工業(yè)園達(dá)瑞路2號眾創(chuàng)樓一樓110室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種純硅沸石膜及其制備方法和應(yīng)用,所述制備方法先以適宜尺寸的沸石晶粒修飾多孔載體,然后在修飾晶粒的載體表面涂覆硅溶膠,在不使用傳統(tǒng)水熱晶化液的條件下,將傳統(tǒng)晶化液中的硅源和模板劑分別供給,并精確調(diào)控模板劑蒸汽壓力和去離子水的壓力直接制備純硅沸石膜,提高了材料利用率,優(yōu)化純硅沸石膜的結(jié)構(gòu),克服了傳統(tǒng)水熱晶化制備沸石膜缺陷多、浪費(fèi)原料等問題,僅通過精確控制模板劑和去離子水壓力即可控制純硅沸石膜的微觀結(jié)構(gòu)。通過本發(fā)明的方法制備得到的純硅沸石膜缺陷少、成品率高,在水醇混合物分離中表現(xiàn)出優(yōu)異的性能。?? |
