還原爐底盤結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201922284771.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212504015U | 公開(公告)日 | 2021-02-09 |
申請公布號 | CN212504015U | 申請公布日 | 2021-02-09 |
分類號 | C01B33/021(2006.01)I | 分類 | 無機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 彭建濤;湯曉英;薛小龍;茅陸榮;陳宏偉;杜彥楠 | 申請(專利權(quán))人 | 上海森松新能源設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上??剖⒅R產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉燕武 |
地址 | 200062上海市普陀區(qū)金沙江路915號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及還原爐底盤結(jié)構(gòu),包括底盤主體(1)、從內(nèi)到外依次布置在底盤主體(1)上的若干組硅棒(2),以及布置在底盤主體(1)上的進(jìn)氣口(3)和出氣口(4),每組硅棒(2)由多對硅棒(2)圍成一個同心圓,任意相鄰兩組硅棒之間的間距相等,并記為SA,同一組硅棒(2)中,任意一對硅棒(2)的兩個硅棒(2)的間距記為SB,分別處于不同對硅棒(2)的任意相鄰兩個硅棒(2)的間距記為SC,且SB不等于SC。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型通過控制同心圓間距相等,使得層間硅棒相互輻射距離相近,從而使得每根硅棒周圍相互輻射熱相互接近,采用進(jìn)出氣均勻分布的方式,保證溫度場和流場的均勻,解決了大爐型的布棒尺寸大的問題。?? |
