一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022645565.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213845292U 公開（公告）日 2021-07-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN213845292U 申請(qǐng)公布日 2021-07-30
分類號(hào) H01L31/18（2006.01）I;C30B31/00（2006.01）I;C21D1/26（2006.01）I;C23C16/00（2006.01）I;F16J15/06（2006.01）I;F16F15/02（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 林佳繼;龐愛鎖;劉群;李東林 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 拉普拉斯（無(wú)錫）半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州天昊專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 董世博
地址 214000江蘇省無(wú)錫市錫山區(qū)錫北鎮(zhèn)錫港路張涇東段209號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型為一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，包括爐口、腔體以及爐尾；腔體設(shè)置于爐口以及爐尾之間；腔體包括內(nèi)層腔體以及外層腔體，內(nèi)層腔體設(shè)置于外層腔體的內(nèi)部；外層腔體分別與爐口以及爐尾固定連接；內(nèi)層腔體與爐口可拆式連接，內(nèi)層腔體還與爐尾連接；通過(guò)設(shè)置內(nèi)層腔體和外層腔體的結(jié)構(gòu)，在內(nèi)層腔體上形成膜，由外層腔體承受真空壓力，實(shí)現(xiàn)膜應(yīng)力和真空壓力的分離，進(jìn)而增強(qiáng)腔體的承受能力。