一種飛點(diǎn)形成裝置及設(shè)計(jì)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510072391.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN105987920B 公開（公告）日 2019-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN105987920B 申請(qǐng)公布日 2019-10-08
分類號(hào) G01N23/04;G01V5/00 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 王彥華;曹艷鋒;王少鋒;劉錚 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中泰元科股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京信諾創(chuàng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京君和信達(dá)科技有限公司
地址 100011 北京市西城區(qū)黃寺大街26號(hào)院4號(hào)樓308(德勝園區(qū))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種飛點(diǎn)形成裝置，包括輻射源和屏蔽體，屏蔽體為中空?qǐng)A柱體，屏蔽體側(cè)壁上具有成對(duì)設(shè)置的螺旋槽，每對(duì)螺旋槽包括一個(gè)入射槽和一個(gè)出射槽，其特征在于，具有兩對(duì)螺旋槽，其中，第一入射槽的最高點(diǎn)和最低點(diǎn)分別對(duì)應(yīng)輻射源射線束的最大上張角和最大下張角，第二入射槽的最高點(diǎn)和最低點(diǎn)也分別對(duì)應(yīng)輻射源射線束的最大上張角和最大下張角；在屏蔽體圓周方向上，第一入射槽和第二入射槽共同占0?180°的范圍；第一出射槽和第二出射槽分別與第一入射槽和第二入射槽相對(duì)應(yīng)。本發(fā)明還公開了一種飛點(diǎn)形成裝置設(shè)計(jì)方法。利用本發(fā)明可提高飛點(diǎn)形成裝置的掃描速度。