一種輻射成像指標(biāo)測試設(shè)備及檢查裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921404935.0 申請日 -
公開（公告）號 CN210775283U 公開（公告）日 2020-06-16
申請公布號 CN210775283U 申請公布日 2020-06-16
分類號 G01N23/04(2018.01)I;G01N23/06(2018.01)I 分類 -
發(fā)明人 曹艷鋒;郭近賢;王少鋒 申請（專利權(quán)）人 中泰元科股份有限公司
代理機構(gòu) 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京君和信達(dá)科技有限公司
地址 100088北京市西城區(qū)新街口外大街8號12幢103號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種輻射成像指標(biāo)測試設(shè)備，包括：調(diào)整機構(gòu)；測試體，測試體安置在調(diào)整機構(gòu)上，調(diào)整機構(gòu)帶動測試體移動；探測區(qū)，探測區(qū)設(shè)置有多個探測器，多個探測器覆蓋整個射線束能到達(dá)的位置；檢查裝置，檢查裝置包括標(biāo)志物，標(biāo)志物中心線所在直線與測試體沿射線方向中心線平行并在掃描方向上位于相同高度，且位于輻射源源點和探測區(qū)之間。本實用新型的技術(shù)方案提高了對輻射成像指標(biāo)測試裝置中測試角度調(diào)整的精確度，更加直觀、便捷，操作性強。??