非球面光學(xué)元件的立式雙磨頭磨削加工方法及其所采用的加工裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110519627.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113084649A | 公開(公告)日 | 2021-07-09 |
申請公布號 | CN113084649A | 申請公布日 | 2021-07-09 |
分類號 | B24B13/00(2006.01)I;B24B27/00(2006.01)I;B24B47/20(2006.01)I;B24B13/005(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 劉海濤;王銀河;宋光輝;李文龍;畢高峰 | 申請(專利權(quán))人 | 沈陽儀表科學(xué)研究院有限公司 |
代理機構(gòu) | 沈陽亞泰專利商標代理有限公司 | 代理人 | 郭元藝 |
地址 | 110043遼寧省沈陽市大東區(qū)北海街242號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬光學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種非球面光學(xué)元件的立式雙磨頭磨削加工方法及其所采用的加工裝置,采用四軸系二軸可聯(lián)動方式,由水平往復(fù)軸X1(3)及固定其上的上下往復(fù)磨架Z1軸(2)依次分別完成左磨頭(4)的磨削進給與光學(xué)元件的粗磨削;由水平往復(fù)軸X2(10)及固定其上的上下往復(fù)磨架Z2軸(11)依次分別完成右磨頭(9)的磨削進給與光學(xué)元件的精磨削。本發(fā)明加工區(qū)穩(wěn)定,立式雙磨頭加工一體成型,面形精度好,實現(xiàn)對大尺寸深曲率非球面磨削加工。 |
