一種高抗短路能力的溝槽柵IGBT
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110167453.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112750902A | 公開(公告)日 | 2021-05-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112750902A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-04 |
分類號(hào) | H01L29/739;H01L29/423 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張偉;王修中;許冬梅;雷正龍;宋吉昌;李環(huán)偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳吉華微特電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 | 代理人 | 馮建華;劉曰瑩 |
地址 | 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍城街道龍崗天安數(shù)碼創(chuàng)新園二號(hào)廠房A1201 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種高抗短路能力的溝槽柵IGBT,從上到下依次為:發(fā)射極、介質(zhì)層、N+源區(qū)、P?阱區(qū)、N?漂移區(qū)、N+緩沖層、P+集電極和集電極電極,其特征在于,介質(zhì)層下還包括:兩第一溝槽,每一第一溝槽內(nèi)形成一第一柵極,兩第一溝槽間設(shè)有偶數(shù)個(gè)第二溝槽,每一第二溝槽內(nèi)形成一第二柵極;第一溝槽位于P?阱區(qū)和N?漂移區(qū),第二溝槽位于N+源區(qū)和P?阱區(qū)內(nèi),第二溝槽通過N+源區(qū)與第一溝槽相連接。本發(fā)明在兩第一溝槽間設(shè)置偶數(shù)個(gè)第二溝槽,當(dāng)?shù)谝粬艠O和第二柵極電壓達(dá)到開啟電壓時(shí),第二溝槽的側(cè)壁和底部也形成電子導(dǎo)電通道,與第一溝槽的電子導(dǎo)電通道相連接,增加了總溝道的長(zhǎng)度,提高了器件抗短路能力。 |
