一種氣體濃度測量用的光學(xué)系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021105569.1 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN213068623U 公開(公告)日 2021-04-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN213068623U 申請(qǐng)公布日 2021-04-27
分類號(hào) G01N21/3518;G01N21/01 分類 測量;測試;
發(fā)明人 馬永健;朱國亮;紀(jì)勇強(qiáng) 申請(qǐng)(專利權(quán))人 深圳市先亞生物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市順天達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 郭偉剛
地址 518104 廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道后亭茅洲山工業(yè)園工業(yè)大廈全至科技創(chuàng)新園科創(chuàng)大廈十四層D單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種氣體濃度測量用的光學(xué)系統(tǒng),包括順次設(shè)置的:光源、調(diào)制裝置、氣體池、窄帶濾光片、探測器裝置,所述抗干擾濾腔內(nèi)填充含有干擾氣體成分的氣體,所述干擾氣體成分的特征吸收波長在所述待測氣體成分的特征吸收波長附近的預(yù)設(shè)范圍內(nèi),如此,本實(shí)用新型在光源發(fā)出的光進(jìn)入探測器裝置之前,利用干擾氣體成分吸收可能產(chǎn)生干擾的特征頻率的光,使得進(jìn)入探測器裝置的光中無干擾氣體成分可以吸收的頻率的光,因此待測氣體成分中的干擾氣體成分不會(huì)影響待測氣體成分的測量,從而達(dá)到消除待測氣體成分的氣體中干擾成分影響的目的,本實(shí)用新型設(shè)計(jì)巧妙,實(shí)用性強(qiáng)。