適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010041059.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113189023A 公開（公告）日 2021-07-30
申請公布號 CN113189023A 申請公布日 2021-07-30
分類號 G01N21/31（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 馬永健;朱國亮;楊雷;杜立濤 申請（專利權(quán)）人 深圳市先亞生物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市順天達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 郭偉剛
地址 518104廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道后亭茅洲山工業(yè)園工業(yè)大廈全至科技創(chuàng)新園科創(chuàng)大廈十四層D單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種適用于光譜法測量呼氣痕量成份的方法和系統(tǒng)，方法包括：按照設(shè)置的抽真空處理方式對測量氣室進(jìn)行抽真空處理，使測量氣室內(nèi)的壓力達(dá)到設(shè)置的進(jìn)樣前的壓力閾值，所述抽真空處理方式包括對所述測量氣室直接抽真空處理和對所述測量氣室進(jìn)行一次或多次清洗后再抽真空處理；按照設(shè)置的進(jìn)樣次數(shù)進(jìn)行一次進(jìn)樣或者多次進(jìn)樣，本發(fā)明通過抽真空進(jìn)樣方式使測量氣室原有氣體去除到一個可控限值以下，使測量氣室殘留氣體的影響降低到一個可控范圍內(nèi)，從而克服了呼氣樣本量少而無法完全置換測量氣室原有氣體的困難，并克服測量氣室需要較長時間清洗的缺點(diǎn)。