適用于光譜法測(cè)量呼氣痕量成份的方法和系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010041059.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113189023A 公開(kāi)（公告）日 2021-07-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN113189023A 申請(qǐng)公布日 2021-07-30
分類號(hào) G01N21/31（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 馬永健;朱國(guó)亮;楊雷;杜立濤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市先亞生物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市順天達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 郭偉剛
地址 518104廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道后亭茅洲山工業(yè)園工業(yè)大廈全至科技創(chuàng)新園科創(chuàng)大廈十四層D單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種適用于光譜法測(cè)量呼氣痕量成份的方法和系統(tǒng)，方法包括：按照設(shè)置的抽真空處理方式對(duì)測(cè)量氣室進(jìn)行抽真空處理，使測(cè)量氣室內(nèi)的壓力達(dá)到設(shè)置的進(jìn)樣前的壓力閾值，所述抽真空處理方式包括對(duì)所述測(cè)量氣室直接抽真空處理和對(duì)所述測(cè)量氣室進(jìn)行一次或多次清洗后再抽真空處理；按照設(shè)置的進(jìn)樣次數(shù)進(jìn)行一次進(jìn)樣或者多次進(jìn)樣，本發(fā)明通過(guò)抽真空進(jìn)樣方式使測(cè)量氣室原有氣體去除到一個(gè)可控限值以下，使測(cè)量氣室殘留氣體的影響降低到一個(gè)可控范圍內(nèi)，從而克服了呼氣樣本量少而無(wú)法完全置換測(cè)量氣室原有氣體的困難，并克服測(cè)量氣室需要較長(zhǎng)時(shí)間清洗的缺點(diǎn)。