用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進行標定的標定系統(tǒng)及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010414136.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111504344A | 公開(公告)日 | 2020-08-07 |
申請公布號 | CN111504344A | 申請公布日 | 2020-08-07 |
分類號 | G01C25/00;G01C1/00 | 分類 | - |
發(fā)明人 | 楊君;習先強 | 申請(專利權(quán))人 | 天津時空經(jīng)緯測控技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京萬思博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 天津時空經(jīng)緯測控技術(shù)有限公司 |
地址 | 300380 天津市西青區(qū)中北工業(yè)園星光路27號北辦公樓101-102 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開了一種用于對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進行標定的標定系統(tǒng)及方法。其中,非接觸姿態(tài)測量設(shè)備包括用于測量與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài)信息的光學準直裝置和用于測量與光學準直裝置的姿態(tài)相關(guān)的姿態(tài)信息的姿態(tài)測量裝置,并且標定系統(tǒng)包括:姿態(tài)調(diào)整設(shè)備,用于調(diào)整非接觸姿態(tài)測量設(shè)備的姿態(tài);反射部件,設(shè)置有朝向光學準直裝置的參考反射面;以及計算設(shè)備,與光學準直裝置以及姿態(tài)測量裝置連接,配置用于:根據(jù)從光學準直裝置接收的第一測量信息確定光學準直裝置的第一姿態(tài)信息;根據(jù)從姿態(tài)測量裝置接收的第二測量信息確定光學準直裝置的第二姿態(tài)信息;以及根據(jù)第一姿態(tài)信息和第二姿態(tài)信息,對非接觸姿態(tài)測量設(shè)備進行標定。 |
