一種柔性高透光高電磁屏效復合功能膜及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010991009.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112135505A | 公開(公告)日 | 2020-12-25 |
申請公布號 | CN112135505A | 申請公布日 | 2020-12-25 |
分類號 | H05K9/00(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術; |
發(fā)明人 | 史一寧;李海中;劉浩;寸鐵;董全亮 | 申請(專利權)人 | 中為聯(lián)合創(chuàng)新(平潭)工程研究有限公司 |
代理機構 | 北京衛(wèi)智暢科專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 屏效工業(yè)技術(蘇州)有限公司;惠州市中為柔性光電子智能制造研究院有限公司 |
地址 | 350000 福建省福州市平潭綜合實驗區(qū)金井灣片區(qū)商務營運中心6號樓5層511室-5612(集群注冊) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種柔性高透光高電磁屏效復合功能膜及其制備方法,包括:通過曝光設置在透明基板上的含銀鹽層并顯影處理曝光層,形成金屬銀部和透光性部分;使所述金屬銀部進行物理顯影和電鍍處理中的至少一種處理,形成導電金屬部;其中,導電金屬負載于所述金屬銀部上;將高分子導電聚合物涂布在所述導電金屬部上,形成一層高分子導電薄膜,并進行熱處理從而使導電金屬部形成完整的導電面層;在所述導電薄膜上涂布熱固化或光固化硬化樹脂,形成透明保護層;完成高透光電磁屏蔽薄膜的制備。本發(fā)明制備的薄膜具有高透光、高電磁屏蔽性能,而且成本低、制備簡單、便于規(guī)?;I(yè)生產(chǎn)。?? |
